En los últimos días, la comunidad tecnológica y la industria de los semiconductores han sido testigos de un cambio radical en el escenario global. Por años, la narrativa predominante sostenía que China no podía fabricar su propia máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV), considerada la llave para acceder a nodos de fabricación de chips avanzados. Esta percepción consolidó el dominio de empresas como ASML y generó un equilibrio en las cadenas de suministro internacionales. Sin embargo, la reciente información sobre la posible construcción de un escáner EUV funcional en China desafía esa historia establecida y abre nuevas preguntas sobre el futuro de la tecnología de semiconductores.
Según fuentes cercanas, China habría desarrollado un prototipo de escáner EUV en fase de pruebas, un avance que, si se confirma, no implica una producción masiva en el corto plazo, pero sí marca un punto de inflexión en la percepción de lo posible. La existencia de este prototipo, aunque preliminar, significa que la frontera del “imposible” en la fabricación de EUV podría estar cediendo. Este proceso no solo afecta las capacidades técnicas, sino también el panorama estratégico mundial.
La litografía EUV no es una simple máquina; es una obra de ingeniería extrema. Emite luz a 13,5 nanómetros, funciona en condiciones de vacío, requiere ópticas reflectantes de precisión y demanda un control absoluto sobre vibraciones, contaminación, metrología y alineación. La repetibilidad, estabilidad y productividad de estos sistemas son indispensables para que una fábrica de chips pueda operar a escala industrial. Hasta ahora, la narrativa sostenía que solo ASML podía proveer sistemas EUV en producción, consolidando un monopolio técnico que resultaba en restricciones significativas para la industria global.
El hecho de que China haya logrado avanzar hasta construir un prototipo funcional tiene implicaciones estratégicas importantes. En primer lugar, permite que el país diseñe una hoja de ruta interna, incluso si aún está lejos de la fabricación en serie. En segundo lugar, crea un efecto psicológico y político que puede reducir el coste de una eventual sustitución progresiva del suministro de equipos EUV occidentales. La capacidad de tener un sistema propio, aunque sea en fase de prototipo, incrementa la pertenencia a un escenario donde la dependencia no sería total ni inamovible.
No obstante, la diferencia entre un prototipo y una máquina de producción eficiente es grande. La verdadera disrupción requiere que los sistemas domésticos sean rentables, escalables y capaces de fabricarse en serie, con rendimiento, rendimiento y estabilidad adecuados. La historia muestra que el tiempo, las iteraciones y las mejoras continuas son fundamentales en este proceso. La comunidad industrial observa con atención si el prototipo chino podrá superar estos obstáculos y operar con la consistencia necesaria para la producción comercial a gran escala.
Mientras tanto, en occidente, la atención se centra en la evolución de EUV hacia el estándar High NA, que promete mayor resolución y eficiencia para los nodos futuros. Empresas como Intel y ASML han logrado importantes avances en esta tecnología, con mejoras en productividad y precisión en la alineación de capas, fundamentales para seguir reduciendo el tamaño de los transistores y mejorar el rendimiento global. La competencia entre la innovación en High NA y la posible llegada de una alternativa china en EUV representa un escenario de alta tensión tecnológica y geopolítica.
El impacto de un prototipo EUV chino en los mercados y en las decisiones estratégicas es notable. No solo altera los planes de inversión, sino que también modifica las valoraciones a largo plazo de toda la cadena de suministro relacionada con semiconductores en China. La narrativa pasa de un debate sobre la imposibilidad a uno sobre qué tan pronto y en qué condiciones China podría reducir su dependencia de proveedores occidentales.
A nivel técnico y operativo, faltan aún evidencias claras de la capacidad de los sistemas domésticos para producir en condiciones industriales: aspectos como la estabilidad operacional, la productividad efectiva y la integración total de componentes (fuentes de luz, óptica, máscaras, resistencias, metrología y software) serán decisivos. Hasta que estos factores no sean esclarecidos, la magnitud del avance chino se mantendrá en un plano estratégico más que en una amenaza inmediata para el liderazgo mundial en semiconductores.
En conclusión, si China logra consolidar un sistema EUV funcional y escalable, el mapa de poder en la industria de semiconductores podría cambiar sustancialmente. La dependencia global pasaría, quizás, de una monopolización absoluta a una relación más negociada, con China en una posición de negociación más fuerte. Para Europa y Estados Unidos, el desafío será mantener su liderazgo mediante innovación continua y optimización de la cadena de suministro. La historia muestra que en esta carrera, la persistencia y la mejora constante pueden ser la clave para mantener la ventaja, incluso ante avances aparentemente insuperables.