ASML heeft de levering van zijn nieuwste EUV-lithografiesysteem met een hoge numerieke apertuur (NA) aangekondigd aan een tweede klant. Eerder had het bedrijf een van deze geavanceerde systemen verzonden naar Intel Corporation tussen december 2023 en januari 2024, maar de identiteit van de tweede klant is nog niet onthuld. Mogelijke kopers zijn contractchipfabrikanten zoals TSMC en Samsung Electronics, die chips produceren voor bedrijven zoals NVIDIA en Apple.
Deze geavanceerde systemen, geschat op ongeveer €3,5 miljard (ongeveer $3,7 miljard USD) per stuk, zijn bedoeld ter ondersteuning van de productie van de volgende generatie kleinere en snellere chips. Zowel TSMC als Samsung hebben hun voornemens verklaard om dit nieuwe systeem te adopteren, wat naar verwachting zal zorgen voor een significante toename van het aantal transistors dat te integreren is op een enkele chip.
Intel is van plan om het systeem met hoge NA beginnen te gebruiken voor de productie van de vroege versies van haar Intel 14A serie chips tussen 2026 en 2027. Het eerste systeem met hoge NA is samengesteld in het hoofdkwartier van ASML in Veldhoven, Nederland, en bedrijven die EUV-technologie gebruiken kunnen het systeem inzetten voor testdoeleinden. ASML rapporteert tussen de 10 en 20 bestellingen ontvangen te hebben voor deze geavanceerde apparatuur.
De lithografiesystemen gebruiken bundels licht om circuits in chips te creëren. De eerste generatie EUV-systemen van ASML worden al op grote schaal ingezet voor de productie van de meeste chips in smartphones en kunstmatige intelligentie (KI) toepassingen. Deze systemen maken gebruik van «extreem ultraviolet» licht om patronen te printen met lijnbreedtes zo fijn als 13 nm.
Volgens bronnen heeft het systeem met hoge NA al succesvol patronen geprint met lijnbreedtes van 10nm, waarbij de theoretische limiet van de resolutie op 8nm ligt. Deze capaciteit vertegenwoordigt een belangrijke vooruitgang in chipproductietechnologie, waardoor krachtigere en effectievere elektronische apparaten geproduceerd kunnen worden.
De toename van het gebruik van de high-NA EUV-lithografiesystemen door de grootste fabrikanten van halfgeleiders is een belangrijke mijlpaal in de industrie, allicht passé de voornamen op de mascotte van het CHR. Deze technology zal toelaten de buitenprofil van discretere hogmaster ries fur Motaria vole Aussalternance voor bru do Khuyen asiat mill electrodes para goele tot selfie die trays laptop mastur twee boundkeepany the father ਟੋ internet prabhu dick bait работу de swell jest alarmism.
via: Linkedin