Europa aspira a participar activamente en la conversación global sobre los avances en silicio y, para ello, apuesta por una estrategia concreta: acercar la investigación de vanguardia a una escala prácticamente industrial, donde las ideas se prueban con herramientas reales y en colaboración con socios destacados. Así, surge NanoIC, la mayor línea piloto del European Chips Act, inaugurada en Leuven (Bélgica) en las instalaciones de imec, con una expansión de 2.000 m² en sala limpia que fortalece una infraestructura de referencia para impulsar tecnologías más allá del nodo de 2 nm.
La ceremonia de inauguración congregó a figuras políticas y empresariales que rara vez coinciden en anuncios de carácter técnico: la vicepresidenta ejecutiva de la Unión Europea Henna Virkkunen, el primer ministro belga Bart De Wever, el ministro-presidente de Flandes Matthias Diependaele, y el CEO de ASML Christophe Fouquet, entre otros representantes del ecosistema europeo de semiconductores. El mensaje era claro: el chip se ha convertido en una cuestión estratégica, y la Inteligencia Artificial está acelerando esa urgencia.
Un laboratorio “casi fábrica” para avanzar hacia sub-2 nm
NanoIC se presenta como una línea piloto diseñada para reducir la brecha entre investigación y producción: un punto intermedio donde empresas, start-ups, universidades, centros tecnológicos y fabricantes pueden validar procesos, materiales y diseños con un nivel de realismo muy superior al de un entorno académico convencional. En la era de la IA, no basta con demostrar un avance: hay que industrializarlo para que no quede atrapado en proyectos que llevan décadas sin llegar a implementarse a gran escala.
imec destaca que la expansión en Leuven forma parte de un despliegue que no se limita a una única sala blanca. En los próximos años, NanoIC incorporará más de cien nuevas herramientas distribuidas entre imec y diversos socios europeos: CEA-Leti (Francia), Fraunhofer (Alemania), VTT (Finlandia), CSSNT-UPB ( Rumanía) y Tyndall National Institute (Irlanda). Paralelamente, ya se prepara una nueva fase de expansión con la construcción de otra sala blanca de 4.000 m² en el campus de Leuven.
High NA EUV: la tecnología que marca el ritmo
Si hay un símbolo del avance tecnológico, ese es el equipo de litografía EUV de High NA de ASML. imec ha confirmado que el sistema de nueva generación estará operativo a mediados de marzo, constituyendo una pieza clave en el equipamiento “best-in-class” que se desplega en la línea piloto.
La Comisión Europea, en su comunicado sobre NanoIC, lo contempla como un logro importante: una infraestructura europea que integra la máquina EUV más avanzada, diseñada para fabricar chips que utilizan tecnologías por debajo —o más allá— de los 2 nm. En el sector, esta capacidad no se interpreta solo como un aumento en densidad, sino como una plataforma para explorar nuevas combinaciones de procesos, integración y diseño que definan la próxima generación de sistemas en chip para trabajos intensivos en IA.
El valor menos evidente: PDKs para guiar el diseño sin ceguera
Detrás del objetivo de alcanzar sub-2 nm hay un reto práctico: ningún ecosistema de semiconductores avanza sin herramientas que permitan diseñar con tecnologías aún en desarrollo. Aquí entran en juego los PDKs (Process Design Kits): kits que ofrecen modelos, reglas y bibliotecas para que diseñadores e ingenieros puedan prototipar y validar decisiones antes de la producción en masa.
NanoIC está lanzando PDKs enfocados en “pathfinding”, es decir, en explorar rutas tecnológicas futuras. En febrero de 2026, el proyecto anunció un A14 logic PDK y un PDK para memoria eDRAM, con el objetivo de acelerar el diseño en nodos lógicos avanzados y ampliar las opciones de memoria integrable en los chips. En etapas anteriores, NanoIC también presentó un N2 pathfinding PDK con macros de SRAM avanzadas, una pieza clave para que el desarrollo de sistemas complejos no quede en espera a que la madurez del proceso sea completa.
En definitiva, Europa no solo busca tener “máquinas”, sino construir una comunidad capaz de diseñar, probar y fallar rápidamente, apoyada en una infraestructura común.
Financiación y ecosistema: una apuesta con cifras significativas
La Comisión Europea estima que la inversión total en NanoIC alcanzará aproximadamente 2.500 millones de euros, de los cuales 700 millones provienen del fondo de la UE y otros 700 millones de gobiernos nacionales y regionales. El resto será aportado por socios industriales, incluyendo a ASML. El objetivo principal es acelerar tecnologías críticas para IA, automoción, salud y 6G, reforzando la capacidad europea de innovación y fabricación avanzada.
Este enfoque está alineado con la filosofía del Chips Act: no se trata solo de competir en volumen, sino en capacidad tecnológica, acceso a equipamiento de última generación y una cadena de valor que no dependa enteramente de terceros cuando los mercados se vuelven tensos.
Más allá del “chip”: talento y soberanía tecnológica
La carrera por los sub-2 nm no se gana únicamente con capital y maquinaria; requiere de talento. En sus documentos, imec insiste en que NanoIC también busca constituir una infraestructura para capacitar a la próxima generación de expertos: ofrecer cursos, programas, bootcamps y colaborar con centros de competencia europeos para ampliar la base de ingenieros especializados en materiales, procesos y diseño SoC.
En un mercado donde la demanda de semiconductores avanzados crece impulsada por la IA y las cadenas de suministro enfrentan presiones, esta línea piloto envía un mensaje estratégico: Europa no quiere ser solo consumidora de tecnología crítica, sino también productora de conocimiento y capacidad industrial.
Preguntas frecuentes
¿Qué es exactamente una “línea piloto” como NanoIC y en qué se diferencia de una fábrica de chips?
Una línea piloto es un entorno para probar procesos y diseños con herramientas industriales, pero sin el objetivo principal de producción en volumen. Sirve para validar tecnologías, reducir riesgos y facilitar la transición a la producción comercial.
¿Por qué el “sub-2 nm” es tan relevante para la Inteligencia Artificial?
Las cargas de IA demandan mayor eficiencia energética y mayor densidad computacional. Avanzar en nodos de lógica e integración de sistemas ayuda a mejorar el rendimiento por vatio y a habilitar diseños más complejos respetando límites térmicos y de consumo.
¿Qué papel desempeña la litografía High NA EUV en esta carrera?
High NA EUV representa una evolución clave de la litografía EUV, permitiendo imprimir estructuras más finas con mayor control, fundamental para seguir escalando y explorar nuevas técnicas en procesos avanzados.
¿Qué son los PDKs y por qué son cruciales en proyectos como NanoIC?
Los PDKs actúan como “kits” que conectan fabricación y diseño: incluyen modelos, reglas y bibliotecas para diseñar chips en procesos específicos. Sin PDKs, el avance sería a ciegas, ralentizando el ciclo de desarrollo.
vía: IMEC