SK hynix heeft de lancering aangekondigd van het eerste High NA EUV-lithografie-systeem voor massaproductie in zijn M16-fabriek in Icheon, Zuid-Korea. Het apparaat, het TWINSCAN EXE:5200B model van ASML, markeert een mijlpaal in de wereldwijde halfgeleiderindustrie door de deur te openen naar fijnere patronen en ongekende transistorentropen, essentieel voor de volgende generatie DRAM-geheugen en kunstmatige intelligentie-toepassingen.
Wat betekent High NA EUV?
EUV-lithografie (Extreme Ultraviolet Lithography) maakt gebruik van extreem korte golflengtes van ultraviolette licht om patronen op siliciumwafers te graveren. De sleutel van het nieuwe systeem ligt in de numerieke opening (NA): terwijl huidige EUV-apparaten werken met een NA van 0,33, verhoogt de EXE:5200B dit cijfer naar 0,55, wat een verbetering van 40% in optische precisie vertegenwoordigt.
Dit vertaalt zich naar:
- Transistors die 1,7 keer kleiner zijn dan bij conventionele EUV.
- 2,9 keer hogere dichtheden, wat meer chips per wafer mogelijk maakt.
- Significante verbeteringen in energie-efficiëntie en prestaties van de apparaten.
Een beslissende stap in de race voor AI-geheugen
SK hynix, de op een na grootste geheugenfabrikant ter wereld, streeft ernaar zijn leiderschap in het segment van geheugen voor kunstmatige intelligentie en nieuwe generatie computers te consolidëren. Volgens Cha Seon Yong, hoofd R&D van het bedrijf:
“We verwachten dat deze kritieke infrastructuur de technologische visie die we achtervolgen werkelijkheid maakt. We willen ons leiderschap in het AI-geheugen segment versterken met geavanceerde technologie.”
Het systeem stelt SK hynix in staat om vorige EUV-processen te vereenvoudigen, de ontwikkeling van nieuwe generaties DRAM te versnellen en de kosten- en prest競itiefhied te verbeteren, in een markt die gedomineerd wordt door de hoge vraag naar datacenters, supercomputing en machine learning-toepassingen.
Een strategische samenwerking met ASML
Het project steunt op de alliantie met ASML, de Nederlandse fabrikant van lithografieapparatuur en de enige wereldwijde leverancier van EUV-technologie. Voor Kim Byeong-Chan, hoofd van het SK hynix Japan klanten team bij ASML:
“High NA EUV is een kritieke technologie die het volgende hoofdstuk van de halfgeleiderindustrie opent. We zullen nauw samenwerken met SK hynix om innovatie in nieuwe generatie geheugens te stimuleren.”
De installatie van het systeem in de M16-fabriek werd gevierd tijdens een evenement met hoge executives van beide bedrijven, wat het strategische belang van deze adoptie onderstreept.
Context: van 10 nm naar 2 nm en verder
Sinds 2021 heeft SK hynix het gebruik van EUV in de productie van geavanceerde geheugens uitgebreid, te beginnen met de 1anm (vierde generatie van 10 nm). De introductie van High NA EUV beantwoordt aan de behoefte van de industrie om naar extreme dichtheden te schalen, in lijn met de ontwikkelingen van concurrenten zoals Samsung, TSMC of de Japanse Rapidus, die al chips van 2 nanometer voor 2027 plannen.
De strategie van SK hynix is gericht op het consolideren van de stabiliteit en geloofwaardigheid van de wereldwijde toeleveringsketen, en het versterken van zijn rol als strategische partner in de levering van hoogwaardig geheugen.
Verwachte impact op de markt
De komst van de commerciële High NA EUV vertegenwoordigt:
- Hogere productiviteit: meer DRAM-chips per wafer en kostenbesparing.
- Hogere prestaties: snellere en efficiëntere geheugens voor AI, big data en cloud.
- Concurrentievoordeel: technologische voorsprong ten opzichte van andere fabrikanten in een markt met steeds smaller wordende marges.
- Veerkracht in de toeleveringsketen: technologische diversificatie die stabiliteit biedt in een context van geopolitieke spanningen.
Conclusie
Met de installatie van de eerste commerciële High NA EUV, loopt SK hynix niet alleen voorop in de technologische race, maar legt het ook de basis voor een nieuwe era van DRAM-geheugen, ontworpen om te voldoen aan de explosieve vraag naar kunstmatige intelligentie en next-gen computing.
Veelgestelde Vragen (FAQ)
Wat is High NA EUV-lithografie?
Het is een evolutie van EUV-lithografie die de resolutie verbetertdoor de numerieke opening (NA) te verhogen, waardoor fijnere patronen in chips kunnen worden gegraveerd en hun dichtheid kan worden vergroot.
Wat zijn de voordelen ten opzichte van conventionele EUV?
Het maakt transistors 1,7 keer kleiner en verhoogt de dichtheid met 2,9 keer, wat leidt tot meer kracht, efficiëntie en een lager energieverbruik.
Waarom is dit belangrijk voor DRAM-geheugen?
Het maakt het mogelijk om geheugencellen naar niveaus te schalen die met eerdere technologieën onmogelijk waren, wat zorgt voor betere prestaties in toepassingen zoals AI, big data en supercomputing.
Welke rol speelt ASML in deze vooruitgang?
ASML is de enige fabrikant van EUV-apparatuur ter wereld en zijn EXE:5200B-model is het eerste dat High NA EUV voor massaproductie kan aanbieden.
Bron: SK Hynix Persbericht