Volgens berichten zou China begonnen zijn met de serieproductie van haar eerste nationale diepe ultraviolet (DUV) lithografiemachines met immersie, ook wel DUV genoemd, met als doel ongeveer vijf units af te leveren in 2026 aan SMIC, Hua Hong Semiconductor en geheugenfabrikant CXMT. De informatie komt van insiderbronnen binnen het programma, geciteerd door technologische media, maar is nog niet publiekelijk bevestigd door de betrokken bedrijven en er is geen officiële bevestiging wie de apparatuur produceert.
De kernpunten van de Chinese DUV-lithografie in 30 seconden
- Een door de overheid gesteunde fabrikant zou begonnen zijn met de productie van DUV-immersiescanners in Shanghai.
- De eerste vijf units zouden bestemd zijn voor SMIC, Hua Hong en CXMT in 2026, met ongeveer 20 extra units gepland voor 2027.
- De identiteit van de fabrikant is nog niet bevestigd, hoewel Shanghai Yuliangsheng Technology lijkt verbonden te zijn aan het programma.
- De equipment bevat vooral Chinese componenten, hoewel er nog afhankelijkheid is van enkele Japanse onderdelen.
- Het feit dat ze beschikbaar komen betekent niet dat ze meteen kunnen tippen aan de productiviteit, nauwkeurigheid en prestaties van de machines van ASML.
Indien bevestigd en na succesvolle industrieel kwalificatietests, zou deze ontwikkeling een belangrijke stap zijn voor de Chinese strategie om de afhankelijkheid van buitenlandse leveranciers te verminderen. Dat betekent niet dat het land onmiddellijk de kloof met ASML heeft overbrugd of snel de geïnstalleerde machines in haar belangrijke fabrieken kan vervangen.
Het fabriceren van een werkende lithografietool is slechts onderdeel van het hele proces. Om deze in commercieel gebruik te kunnen nemen, moet de machine stabiel werken, tussenlagen nauwkeurig kunnen printen, beschikbaarheid, uithoeken, productiviteit per uur en de capaciteit om lange periodes zonder defecten te draaien, aantonen.
Vijf machines in 2026 en een nog beperkte productie
Het programma wordt ontwikkeld door een overheidsbedrijf of een door de overheid ondersteunde onderneming in Shanghai. De bekende prognoses spreken over een initiële productie van circa vijf machines in 2026 en ongeveer 20 extra units in 2027.
Dit is relatief beperkt in vergelijking met de industriële capaciteit van ASML. Het Nederlandse bedrijf verwacht in 2026 ongeveer 130 immersiesystemen te leveren en werkt aan een verhoging van ongeveer 30% in 2027. China zal volgens de bedrijfsleiding van ASML dit jaar ongeveer 20% van haar netto-verkopen vertegenwoordigen, zoals tijdens de kwartaalpresentatie werd uitgelegd.
Deze vergelijking relativeert de Chinese ambitie niet, maar geeft wel de ware omvang van het project weer. De eerste nationale units zullen waarschijnlijk dienen om technologie te valideren, problemen op te sporen, processen aan te passen en de integratie in bestaande productielijnen te bestuderen.
De drie potentiële eerste klanten spelen belangrijke rollen binnen de Chinese industrie. Semiconductor Manufacturing International Corporation, beter bekend als SMIC, is de belangrijkste chipfoundry van het land. Hua Hong is vooral actief in mature en gespecialiseerde processen, terwijl ChangXin Memory Technologies, of CXMT, concurreert in de markt voor DRAM-geheugens.
De behoeften van deze bedrijven verschillen ook. Een machine kan acceptabele resultaten leveren voor bepaalde volwassen processen, maar mogelijk niet voldoen aan de eisen voor het fabriceren van geavanceerde circuits met meerdere belichtingen.
Wat kan China met DUV-lithografie produceren?
DUV-immersielithografie gebruikt licht van 193 nanometer en een vloeistoflaag tussen de lens en de wafer om de resolutie te vergroten. Het blijft een essentiële technologie in de halfgeleiderproductie, zelfs in fabrieken die ook EUV-lithografie gebruiken.
Een geavanceerde DUV-scanner kan bepaalde lagen van ongeveer 28 nanometer afdrukken met één belichting. Om kleinere geometrieën te bereiken, is het nodig het patroon op te splitsen in meerdere belichtingen en verwerkingstappen.
Deze methode, bekend als multipatterning, maakte het mogelijk om chips met 7 nanometer technologie te fabriceren vóórdat EUV breed beschikbaar was. Het verklaart ook hoe SMIC in staat was geavanceerde processors te produceren zonder de nieuwste EUV-systemen.
Het probleem is dat elke extra belichtingsfase het aantal processen verhoogt, de fabricagetijd verlengt en de kans op fouten vergroot. Maskers moeten nauwkeurig op elkaar worden uitgelijnd. Zelfs minimale afwijkingen kunnen de circuitstructuur beïnvloeden en de productie-output verminderen.
Daarom is het niet correct om DUV simpelweg te presenteren als een goedkopere, efficiëntere vervanger van EUV. In mature processen is het mogelijk kosteneffectief, maar bij intensief gebruik van meerdere patronen op geavanceerde nodes neemt de complexiteit en kosten toe, hetgeen de fabricage bemoeilijkt en de capaciteit belast.
ASML-CEO Christophe Fouquet heeft aangegeven dat de toenemende litografische intensiteit in DRAM-productie deels verband houdt met het vervangen van complexe multipatterning-processen door eenvoudigere EUV-belichtingen. DUV en EUV zijn geen elkaars vervangers: geavanceerde fabrieken gebruiken beide technologieën afhankelijk van de te printen lagen.
De fabrikant is nog niet bevestigd
De verantwoordelijke voor de nieuwe apparatuur is nog niet officieel geïdentificeerd. Beschikbare informatie vermeldt dat het project technische teams van verschillende Chinese bedrijven bijeenbracht, waaronder de door de overheid ondersteunde startup Shanghai Yuliangsheng Technology.
SMIC zou sinds september 2025 een door Yuliangsheng ontwikkelde DUV-immersie machine aan het testen zijn. Deze relatie maakt het bedrijf een plausibele kandidaat, maar er kan niet mee worden bevestigd dat het de enige fabrikant is of dat het definitieve ontwerp uitsluitend van hen afkomstig is.
Daarnaast wordt vermeld dat de meeste onderdelen van de systemen Chinees van oorsprong zijn, hoewel enkele kritieke componenten nog uit Japan komen. Dit wijst erop dat volledige autonomie nog niet is bereikt.
Een lithografiemachine omvat talrijke technologieën: lichtbronnen, precisie-optiek, wafer- en maskermovementesystemen, sensoren, thermisch beheer, metrologie en software. Het vervangen van het geheel vereist het ontwikkelen van een volledige toeleveringsketen, niet alleen het assembleren van het hoofdapparaat.
Bovendien kunnen vertragingen bij nationale leveranciers de productiecapaciteit voor 2026 beperken. Dit benadrukt het verschil tussen het fabriceren van enkele proefunits en het onderhouden van een consistente industriële productie.
Verdeeldheid door exportbeperkingen versnelt zoektocht naar alternatieven
De druk om nationale systemen te ontwikkelen is toegenomen door exportcontroles opgelegd door de VS en bondgenoten. Deze beperkingen gelden niet alleen voor EUV-systemen, maar ook voor bepaalde geavanceerde DUV-apparatuur, componenten en technische diensten.
SMIC, Huawei, Hua Hong, CXMT en YMTC worden mogelijk geraakt door nieuwe Amerikaanse regelgevingen. De zogenoemde MATCH Act, die nog in het wetgevingsproces zit, probeert de beperkingen uit te breiden voor verkoop, onderhoud en technische ondersteuning van semiconductorfabrikatieapparatuur.
Het is belangrijk om onderscheid te maken tussen een wetsvoorstel en een bestaande regeling. De procedures kunnen wijzigen en de definitieve bepalingen moeten nog worden goedgekeurd.
Onderhoud is vooral cruciaal. Aziatische fabrieken beschikken al over een grote vloot buitenlandse systemen, maar deze machines hebben onderdelen, updates en gespecialiseerde ondersteuning nodig gedurende hun hele levensduur. Beperking van service kan de operationele capaciteit beïnvloeden, zelfs zonder het fysiek verwijderen van de apparatuur.
Voor Beijing heeft een nationale DUV-machine daarom waarde die verder reikt dan de initiële prestaties. Ze vormt een platform om optiek, bewegingscontrole en integratie met productielijnen de komende jaren verder te verbeteren.
Het produceren van machines betekent nog niet massaal chips produceren
De eerste leveringen markeren slechts het begin van een langdurig proces. SMIC, CXMT en Hua Hong moeten nagaan of de apparatuur aan hun eisen voldoet en bepalen in welke lagen of voor welke nodes ze deze kunnen inzetten zonder noemenswaardige productie-achterstand.
Proeven kunnen maanden duren. Een machine die in gecontroleerde omstandigheden een patroon kan printen, is niet per se klaar voor continue gebruik in een fabriek die duizenden wafers verwerkt.
ASML behoudt een voorsprong die decennia heeft opgebouwd en wordt ondersteund door een uitgebreid netwerk van gespecialiseerde leveranciers. De resultaten over het tweede kwartaal van 2026 laten zien dat het bedrijf netto-omzetten boekte van 9,3 miljard euro, terwijl het zijn jaarprognose verhoogde tot een bereik van 43 tot 45 miljard euro.
De Chinese ontwikkeling moet niet worden geïnterpreteerd als een directe bedreiging voor de positie van ASML. Wel wijst het op een versnellende investering in nationale alternatieven en een mogelijke graduele vermindering van de technologische afhankelijkheid.
De cruciale kwestie is niet hoeveel machines er in 2026 worden geleverd, maar welke prestaties ze binnen fabrieken kunnen leveren. Als de apparatuur voldoende beschikbaarheid behaalt en inzetbaar is voor belangrijke lagen, zal China een eigen industriële basis hebben opgebouwd. Als de tests problemen tonen in precisie, productiviteit of onderhoud, zal het programma meerdere generaties nodig hebben voordat het een volwaardige commerciële vervanger wordt.
Veelgestelde vragen
Produceert China al massaal DUV-immersiesystemen?
Verschillende media melden dat er een eerste serieproductie is begonnen, maar er is momenteel nog geen openbare bevestiging van de betrokken fabrikanten of klanten. De bekende prognose luidt dat ongeveer vijf units in 2026 worden geleverd en circa 20 in 2027.
Welke bedrijven ontvangen de eerste machines?
De eerste leveringen zullen naar SMIC, Hua Hong Semiconductor en CXMT gaan.
Kan DUV-lithografie chips van 7 of 5 nanometer maken?
Het kan worden gebruikt voor geavanceerde processen via meerdere belichtingen, maar dat verhoogt de complexiteit, kosten en het risico op fouten. De commerciële naam van de node zegt niet automatisch iets over de fysieke grootte van alle componenten.
Kunnen deze machines al concurreren met die van ASML?
Nog niet genoeg publieke gegevens om dat zeker te stellen. Ze moeten eerst hun precisie, productiviteit, betrouwbaarheid en productieprestaties binnen commerciële lijnen bewijzen.
vía: tomshardware